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半導體在生產或者清洗時，需要使用到水，普通的水中常常含有微生物、金屬離子等雜質，這些雜質會對半導體造成一定的影響，為了能夠去除這些雜質，達到處理半導體的目的，半導體制造商會使用到超純水設備，超純水設備能夠有效的去除水中的雜質，同時提供水的電阻率，是目前半導體中最受歡迎的一款設備。

半導體超純水設備產水標準：
半導體對水質的要求非常高，水質不能達到要求，就會對半導體的性能造成影響，所以半導體超純水設備的產水標準非常的嚴格，需要完全符合美國ASTM純水水質標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、中國電子工業部電子級水質技術標準、國內外大規模集成電路水質標準，如果不能滿足，就不能直接使用在半導體中。

半導體超純水設備的工藝：
半導體超純水設備的工藝流程主要有EDI超純水設備、二級RO反滲透、離子交換樹脂這三種：

EDI超純水設備：

原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點

EDI模塊抗污染性較差，一般在EDI系統的前面加入過濾器、軟水機、反滲透等設備，讓EDI模塊的進水能夠符合要求，這樣EDI模塊的產水一般能夠達到15-18兆歐左右。

二級ro反滲透設備：

原水加壓泵－多介質過濾器－活性炭過濾器－軟水器－保安過濾器－第一級反滲透機－第二級反滲透機－儲水罐－純水輸送泵－用水點

二級反滲透設備則是在反滲透設備的基礎上增加了一道反滲透過濾程序。使用在半導體中的產水，使用一級反滲透是無法達到要求的，所以會在一級反滲透后面再加一道反滲透，使產水能夠達到半導體用水要求。

離子交換樹脂：

原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點

離子交換樹脂設備主要是通過離子吸附的原理對水進行處理，先使用陽離子交換樹脂將水中的陽離子進行吸附，再通過陰離子交換樹脂吸附陰離子，最后使用混床拋光樹脂，提高產水的水質、電阻率，使產水能夠滿足半導體用水的要求。

注意：這三種處理工藝可以根據用戶的進水條件、產水要求進行適當的調整，如果有這方面的需求，可以咨詢我們的客服了解詳情。

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半導體專用超純水設備工藝有哪些？

半導體專用超純水設備工藝有哪些？